真空炉

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{{#pushedProductsPlacement4.length}} {{#each pushedProductsPlacement4}}
{{product.productLabel}}

{{product.productLabel}} {{product.model}}

{{#if product.featureValues}}
{{#each product.featureValues}} {{content}} {{/each}}
{{/if}}
{{#if product.productPrice }} {{#if product.productPrice.price }}

{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{/if}} {{/if}}
{{#if product.activeRequestButton}}
{{/if}}
{{product.productLabel}}
{{product.model}}

{{#each product.specData:i}} {{name}}: {{value}} {{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}} {{/each}}

{{{product.idpText}}}

{{productPushLabel}}
{{#if product.newProduct}}
{{/if}} {{#if product.hasVideo}}
{{/if}}
{{/each}} {{/pushedProductsPlacement4.length}}
{{#pushedProductsPlacement5.length}} {{#each pushedProductsPlacement5}}
{{product.productLabel}}

{{product.productLabel}} {{product.model}}

{{#if product.featureValues}}
{{#each product.featureValues}} {{content}} {{/each}}
{{/if}}
{{#if product.productPrice }} {{#if product.productPrice.price }}

{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{/if}} {{/if}}
{{#if product.activeRequestButton}}
{{/if}}
{{product.productLabel}}
{{product.model}}

{{#each product.specData:i}} {{name}}: {{value}} {{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}} {{/each}}

{{{product.idpText}}}

{{productPushLabel}}
{{#if product.newProduct}}
{{/if}} {{#if product.hasVideo}}
{{/if}}
{{/each}} {{/pushedProductsPlacement5.length}}
烘干炉
烘干炉
VD 23

温度范围: 9 °C - 220 °C
容量: 24 l

... 快速、温和的干燥 通过大型导热板实现最佳的热传导 经过验证的安全理念保证了工作的安全性 还可以选择带有真空泵和泵室的模块化完整系统 BINDER的VD系列真空干燥箱通过其精确的温度控制和温和的干燥提供令人印象深刻的性能。来自BINDER的专利扩展架技术也优化了热传导。架子可以重新定位,以便灵活放置,而且干燥室的内部很容易清洁。 带有压力和温度数字显示的控制器 程序控制的干燥监测,过程结束时自动通风 内部数据记录器,测量值可以通过USB以开放格式读出 1个铝制扩展架,可定制位置 惰性气体连接 通用接入端口DN16 ...

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BINDER GmbH/宾德
烘干炉
烘干炉
VD 56

温度范围: 9 °C - 220 °C
容量: 55 l

... 快速、温和的干燥 通过大型导热板实现最佳的热传导 经过验证的安全理念保证了工作的安全性 还可以选择带有真空泵和泵室的模块化完整系统 BINDER的VD系列真空干燥箱通过其精确的温度控制和温和的干燥提供令人印象深刻的性能。来自BINDER的专利扩展架技术也优化了热传导。架子可以重新定位,以便灵活放置,而且干燥室的内部很容易清洁。 带有压力和温度数字显示的控制器 程序控制的干燥监测,过程结束时自动通风 内部数据记录器,测量值可以通过USB以开放格式读出 1个铝制扩展架,可定制位置 惰性气体连接 通用接入端口DN16 ...

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BINDER GmbH/宾德
烘干炉
烘干炉
VDL 23

温度范围: 9 °C - 110 °C
容量: 24 l

... 快速、温和的干燥 通过大型导热板实现最佳的热传导 符合ATEX标准的安全理念,工作安全。 还可以选择带有真空泵和泵室的模块化完整系统 BINDER VDL系列安全真空干燥箱确保了有机溶剂干燥时的最大安全性。根据ATEX指令2014/34/EU分类的防爆装置。EX II 2/3/- G IIB T3 Gb/Gc/- X。 装置符合ATEX标准。 EX II 2/3/- G IIB T3 Gb/Gc/- X 直观的触摸屏控制器,带有图形化的压力和温度显示 程序控制的干燥监测,过程结束时自动通风 内部数据记录器,测量值可以通过USB以开放格式读出 用于加热的压力控制装置从<100mbar开始激活 2个铝制扩展架,可定制位置 用于与环境空气或惰性气体通风的通用接口 通用接入端口DN16 ...

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BINDER GmbH/宾德
供暖炉
供暖炉
VO29

温度范围: 20 °C - 200 °C
容量: 29 l

... 真空烘箱 VO29 数字压力控制可确保快速、温和的真空干燥,其速度可控真空泵(附件)可节省约 70% 的能源。 标准供货 真空烘箱 在 Memmert 真空干燥箱 VO 的箱体中,载荷与可加热和可移动的保温架直接接触,确保对食品、化妆品、手表、书籍、印刷电路板或注塑模具进行快速、均匀的温度控制,而不会造成热量损失。在本页中,您可以找到真空干燥箱的所有基本技术数据。如果您需要更多信息,我们的客户关系团队将竭诚为您服务。 压力(真空) 真空范围5 至 1100 毫巴 压力控制:数字电子压力控制器,用于速度可控的真空泵。真空管、空气管和惰性气体管由 ...

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Memmert GmbH + Co. KG/美墨尔特
供暖炉
供暖炉
VO49

温度范围: 20 °C - 200 °C
容量: 49 l

... 真空烘箱 VO49 数字压力控制可确保快速、温和的真空干燥,其速度可控真空泵(附件)可节省约 70% 的能源。 标准供货 真空烘箱 在 Memmert 真空干燥箱 VO 的箱体中,载荷与可加热和可移动的保温板直接接触,确保对食品、化妆品、手表、书籍、印刷电路板或注塑模具进行快速、均匀的温度控制,而不会造成热量损失。在本页中,您可以找到真空干燥箱的所有基本技术数据。如果您需要更多信息,我们的客户关系团队将竭诚为您服务。 压力(真空) 真空范围5 至 1100 毫巴 压力控制:数字电子压力控制器,用于速度可控的真空泵。真空管、空气管和惰性气体管由 ...

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Memmert GmbH + Co. KG/美墨尔特
供暖炉
供暖炉
VO101

温度范围: 20 °C - 200 °C
容量: 101 l

... 真空烘箱 VO101 数字压力控制可确保快速、温和的真空干燥,其速度可控真空泵(附件)可节省约 70% 的能源。 标准供货 真空烘箱 在 Memmert 真空干燥箱 VO 的炉腔内,载荷与可加热和可移动的保温架直接接触,确保对食品、化妆品、手表、书籍、印刷电路板或注塑模具进行快速、均匀的温度控制,而不会造成热量损失。如果您想了解更多信息,我们的客户关系团队将竭诚为您服务。 压力(真空) 真空范围5 至 1100 毫巴 压力控制:数字电子压力控制器,用于速度可控的真空泵。真空管、空气管和惰性气体管由 ...

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Memmert GmbH + Co. KG/美墨尔特
供暖炉
供暖炉
Vacutherm

温度范围: 300, 200, 400 °C
容量: 25, 128, 53 l

压制炉
压制炉
Gemini LT

温度范围: 100 °C - 1,180 °C

... 设计用于提高效率,唯一的双工作台型号允许技术人员对每个工作台进行独立编程--即使其中一个工作台正在点火。 高质量修复 完全可适应的编程范围可处理当今市场上的所有陶瓷和可压材料 非腐蚀性气动压制系统可防止开裂并获得更高的密度 节省时间 完全自定义冷却速率和保持时间;预编程回火过程可根据氧化锆、金属和陶瓷材料的不同冷却速率进行调整 通过两个独立的旋转台提高产量。在冷却阶段,该装置会自动将工件移离热区。 当一个工作台在焙烧室时,另一个工作台可进行编程,从而优化实验室生产率。 断电保护装置可确保在恢复供电后继续焙烧。 高效节能 节能功能: 燃烧室内衬优质隔热材料 炉腔入口密封严密,可保持温度,为下一循环做好准备 单相供电,耗电量低 特点 直观的全彩数字显示屏 每侧可使用 ...

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ShenPaz Dental Ltd
消毒炉
消毒炉
DOV series

温度范围: 10 °C - 250 °C
容量: 24, 52, 91 l

广泛用于医药、食品、轻工、化工、农业科研、环境保护等实验领域作粉末干燥,烘焙以及各类玻璃容器的消毒和灭菌之用。真空干燥箱具有干燥物品速度快、污染小、不对被干燥物品的内在质量造成破坏的优点。真空干燥箱专为干燥热敏性、易分解、易氧化物质而设计,能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥。 产品特点: 1、外壳采用优质冷轧钢板制做,表面经静电喷涂工艺处理工作室,采用优质不锈钢或冷轧钢板制作,并经过防腐处理,确保产品经久耐用。 2、控温采用微电脑单片机技术,具有控温定时超温报警功能。 3、双屏高亮度数码管显示,示值准确直观,性能优越,触摸式按键设定调节参数。 4、箱门闭合松紧可由用户任意调节,门内玻璃为优质钢化玻璃具有极高的防爆性,耐高温硅橡胶密封胶条,确保箱内真空度保持时间长。 5、选配充气端口

供暖炉
供暖炉
FNC-BX series

温度范围: 100 °C - 1,200 °C
容量: 2, 12, 7, 16 l

... 腔体材料陶瓷纤维 LCD 程序温度控制 说明 1.镜面不锈钢口,长期使用不变色。 2.进口双层隔热陶瓷内胆,性能稳定 3.真空成型多晶莫来石纤维炉,高效保温。 4.在双层炉壳中,空气套筒是隔热的,并且有双重导向空气通道。 5.高精度微电脑控制器与精密传感器完美结合,温度精确。 还具有以下特点: 1.进口时间控制系统和高精度传感器,灵敏度高、响应快、精度高、稳定性好。 2.增加排气装置,有利于灰化。 3.分体式设计,电路可拆卸,便于维护和保养。 4.P ...

烧结炉
烧结炉
Zirkonofen 700

温度范围: 1,700 °C

烧结炉
烧结炉
Zirkonofen 700 Ultra-Vakuum

温度范围: 0 °C - 1,700 °C

烧结炉
烧结炉
Sinterofen 300S

温度范围: 0 °C
容量: 1 l

供暖炉
供暖炉
MF series

温度范围: 1,100 °C - 1,300 °C
容量: 10, 7 l

... MF系列通用炉具有理想的设计,可广泛应用于许多不同的领域,如金属、陶瓷和食品工业、珠宝和牙科。 通过将加热元件盘绕在陶瓷管上,实现了出色的温度均匀性和快速加热。这一点通过使用高级纤维绝缘材料和内外体之间的空气间隙得到了加强,这也使用户免受热表面的影响。 有多种控制系统可供选择,包括多步骤和斜坡。PID温度控制显示设定值和实际值。如果可能发生过热,则报警和自动切断操作,当门被打开时,一个开关自动切断电源。 详细情况 盘绕在陶瓷管周围的加热元件,放置在试验室的两边。 非常好的温度均匀性和快速加热。 纤维板制成的高等级绝缘材料。 外体温度低。 双层包覆设计,保温室和外体之间有空气间隙,使外体保持低温。 向上打开的平衡盖,并使门的热表面远离操作者,安全而方便地进行装卸。 安全开关在门被打开时切断加热器的电源。 烟囱用于排放操作过程中产生的蒸汽。 PID微处理器控制系统,有实际温度和设定温度显示。 可选择带定时器或二十步的控制系统。 ...

供暖炉
供暖炉
OV series

温度范围: 5 °C - 250 °C
容量: 28, 65 l

... 最适合用于从溶液中分离溶剂或干燥高沸点的溶剂。 性能特点 真空范围。0至0.1兆帕。(模拟真空表) - 在真空中干燥溶剂可以降低其沸点,从而使分离过程更容易,并且不需要使用高温。 微处理器PID控制/温度校准/自动调谐。 均匀的热量分布,来自于连接在室外的块状加热器和阳极氧化铝架。 便利性 直观的控制面板,有明亮的LED显示。(1°C的分辨率) 双重等待开/关定时器模式。(1分钟至99小时59分钟) 方便的预设功能,用于3个最常用的温度设置。 Viton(氟橡胶)门垫也可用于酸性应用。(可选) 加热的钢化玻璃窗提供清晰的腔体内部视野 严密的真空密封得益于弹簧式玻璃门、硅胶密封垫和一个按钮式锁扣手柄。 独立的真空和通风口。 RS-232接口用于外部控制和数据收集。 安全性 键盘锁功能防止操作过程中的意外改变。 电源中断后自动运行。 过温和过流保护。 ...

烘干炉
烘干炉
SVAC1

温度范围: 10 °C - 220 °C
容量: 15.9 l

... 我们经过改造的SHEL LAB SVAC真空烤箱为快速、温和地干燥热敏材料提供了卓越的能力。 真空烤箱可防止产品上的残留物堆积,并使用比典型对流烤箱更低的温度。您的产品在加工过程中受到的影响最小,产量最大。 SHEL LAB真空烤箱具有不锈钢内壁,并提供卓越的耐用性和稳定性。SVAC真空烤箱有3种尺寸,支持各种不同的应用。我们的升级版SVACS符合UL、CSA和CE安全要求,从而使外表面凉爽。为了达到所需的真空度,用户可以选择3/8英寸孔口或KF-25接头,以承受大量使用,并尽量减少抽气时间。 这些设备的门上有带弹簧的正插销手柄,以促进良好的真空密封,而没有缩短密封垫寿命的铰链束缚。钢化玻璃观察窗可以对样品进行安全、连续的监测。 SHEL ...

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Sheldon Manufacturing
供暖炉
供暖炉
AF100

温度范围: max 1200.0 °C

... 真空 炉最后一代的石英松饼炉和经过验证的机制适用于任何类型的陶瓷。 SKU:AF100-AFPRESS 类别:金属铸造 描述 最新一代的石英松饼炉和经过验证的机制适用于任何类型的陶瓷。 他们的电子是简单的管理和高可靠性, 这, 由于一个微处理器, 可以存储多达 100 个工作程序功能与 14 个可编程参数在每个 (模型 AF100) 和 21 个可编程参数每个 (模型 AFPRESE). 机会控制火灾和冲压注射过程的所有参数,从真空度到加热和冷却时间与单独的稳定。 它有一个有效的自我诊断系统。 通过 ...

供暖炉
供暖炉
AF1000

温度范围: max 1200.0 °C

... 真空 炉最后一代的石英松饼炉和经过验证的机制适用于任何类型的陶瓷。 SKU:AF100-AFPRESS 类别:金属铸造 描述 最新一代的石英松饼炉和经过验证的机制适用于任何类型的陶瓷。 他们的电子是简单的管理和高可靠性, 这, 由于一个微处理器, 可以存储多达 100 个工作程序功能与 14 个可编程参数在每个 (模型 AF100) 和 21 个可编程参数每个 (模型 AFPRESE). 机会控制火灾和冲压注射过程的所有参数,从真空度到加热和冷却时间与单独的稳定。 它有一个有效的自我诊断系统。 通过 ...

烧结炉
烧结炉
AFPRESS

温度范围: max 1200.0 °C

... 真空 炉最后一代的石英松饼炉和经过验证的机制适用于任何类型的陶瓷。 SKU:AF100-AFPRESS 类别:金属铸造 描述 最新一代的石英松饼炉和经过验证的机制适用于任何类型的陶瓷。 他们的电子是简单的管理和高可靠性, 这, 由于一个微处理器, 可以存储多达 100 个工作程序功能与 14 个可编程参数在每个 (模型 AF100) 和 21 个可编程参数每个 (模型 AFPRESE). 机会控制火灾和冲压注射过程的所有参数,从真空度到加热和冷却时间与单独的稳定。 它有一个有效的自我诊断系统。 通过 ...

热处理炉
热处理炉
DLDR/V

温度范围: 20 °C - 95 °C
容量: 512 l - 3,380 l

... DLDR/V 型真空静态干燥器采用 cGMP 设计,可满足制药行业最广泛的要求。 主要应用 湿粉末和湿颗粒 热敏性材料 最终残余湿度要求极低的材料 透明质酸原料的批量生产 需要在干燥过程结束时具有特定硬度的粉末,以便日后加工和成型为用于制药和保健品行业的表格(尤其是多层表格)。 可以预见,干燥机的配置甚至可以用于处理含有大量酒精、溶剂或其他挥发性物质的产品,这些物质产生的蒸汽被归类为易燃物和潜在爆炸物。 在这种情况下,干燥机将根据 ATEX 指令 2014/34/UE ...

熟化炉
熟化炉
Vario Press 300e

温度范围: 250 °C - 1,200 °C

... Vario Press 300e是作为压制炉而诞生的,但它也是分层陶瓷和压制陶瓷的优秀烧制炉。 它的独特之处在于拥有专利的界面,用于处理二硅酸锂陶瓷,这种材料因其高强度而脱颖而出,既可使用CAD/CAM,也可使用类似于经典陶瓷技术的压制工艺。然而,二硅酸锂对高温的敏感性、在熔炉中的停留时间以及与磷酸盐结合的涂层质量的接触,导致了结果上的显著质量差异。 由于压机的成功也是由于有效的加热,我们已经申请了一个系统的专利,由于在一个大的烹饪室内的热量回响,保证了完美的结果。Vario ...

退火炉
退火炉
Vario Press 300e ZR

温度范围: 250 °C - 1,200 °C

... VARIO 300e ZR是一种多功能炉,具有用于氧化锆和二硅酸锂的特殊程序。 在氧化锆上烧制牙科陶瓷时,冷却后出现微裂纹的风险很高,Vario 300e ZR通过TTC系统(时间-温度-冷却)解决了这个问题。TTC系统通过设置5°C/min和45°C/min之间的热梯度,实现可控的线性冷却。由于外部蒸煮室的创新设计和对返回到玻璃化点以下温度范围的电子控制,微裂纹的形成和可怕的 "崩裂 "都被避免了。 用于高技术商数的烹饪 自动Z型干燥功能有助于实验室节省时间。在预干燥阶段,传感器根据烹饪室的温度计算升降机的位置,为产品创造理想的温度,并将其保持在130°C。 Z-Drying以小步骤调整升降机,以保持瓶盖上的最佳温度,并减少裂缝或气泡的形成。在接下来的烹饪中,漫长的等待时间因此得以避免。 断电控制安全系统(PFC)在断电的情况下进行干预:当断电后,程序从中断的地方重新开始,并定期结束循环。 ...

供暖炉
供暖炉
LUXOR CERAMIC

温度范围: 20 °C - 1,200 °C

... LUXOR CERAMIC SR 852 - 陶瓷窑炉 SR852陶瓷炉SR852 "Luxor陶瓷 "是最新一代的陶瓷烧制炉,它由电子控制装置管理,旨在极大地简化和减轻技术人员在各个工作周期阶段的工作。 以下是电子控制的主要创新:一个非常强大的16位微处理器;一个用于输入和研究数据和功能的正面编码器;一个 "闪存 "式的存储器,可由操作者通过互联网重新设置和更新(这允许随时用最新的软件版本更新炉子);由蓝光背光的LCD显示屏,可提高图像的对比度和清晰度。 ...

燃尽式炉
燃尽式炉
L(T) 3/11

温度范围: 1,100, 1,200 °C
容量: 3 l - 60 l

L 3/11 - LT 60/12系列的马弗炉适用于实验室日常应用,多年来已赢得广泛认可。出色的焙烧效果、现代化的外型设计及高度的可靠性是此类马弗炉的突出特色。您可以为马弗炉免费选配外开或上开式炉门。 标准规格 通过陶瓷加热板双面加热(L 24/11 - LT 60/12型马弗炉可三面加热)提供最佳的温度均匀性 在温度高于800 ,空气进气阀关闭的情况下,根据DIN 17052-1,在空炉的工作空间内,温度均匀性为+/- 5 K 陶瓷加热板内嵌加热丝,易于维护和更换 独家使用未分类的隔热材料,依据EC法规No ...

供暖炉
供暖炉
VL 01/12 LB

温度范围: 1,200 °C

真空烤瓷炉VL 01/12 LB非常适合在常压或真空下烧制常见的陶瓷贴面。全方位的炉膛加热,可实现非常均匀的温度分布和快速的加热时间。可降低的电动马达驱动的升降工作台,确保了烧制炉膛的装料简单方便。 亮点是特别开发的控制器D580,配备彩色高对比度的6.8英寸触摸显示屏。可以在大触摸屏上进行直观的程序输入。程序可以以图形和表格的形式显示。真空烤瓷炉可自由编程。许多制造商程序可以从纳博热网站的下载区免费下载并加载到控制器上。 作为纳博热控制器的强大补充,使用免费的MyNabertherm应用程序,可以通过移动设备方便地在线监控熔炉。可以跟踪程序进度,推送通知提供有关故障的信息。 对于真空工艺,可进行预抽真空 高品质、自由辐射的加热元件 通过炉膛的全方位加热实现非常好的温度均匀性 由条纹不锈钢板制成的双层通风炉壳,表面温度低、稳定性高 专门使用未分类的隔热材料,依据EC法规No1272/2008(CLP)。这明确表示不使用被归类为可能致癌的铝硅酸盐棉,也称为“耐火陶瓷纤维”(RCF)。 用于放置工具、镊子、钳子和烧结盘的不锈钢架子,可以安装在炉的左侧或右侧 精密的、电动齿带驱动的工作台,带按钮操作,可实现程序控制开启冷却 由于加热容量大,储存热量低,可以实现较短的工艺时间 S型热电偶 交货范围包括装料套件,含带陶瓷销用于精确定位烧制物品的烧结盘、镊子和用于温度校准的银制试样套件 触屏操作的控制器D580是专门为带预制程序的烤瓷工艺开发的 免费下载所有常用的烤瓷程序,无需注册用户帐户即可通过U盘将程序导入控制器 MyNabertherm ...

供暖炉
供暖炉
VL 01/12 LB Press

温度范围: 1,200 °C

真空铸瓷炉VL 01/12 LB PRESS非常适合在常压或真空下烧制传统的陶瓷贴面,也适用于所有常见的压铸陶瓷的加工。全方位的炉膛加热,可实现非常均匀的温度分布和快速的加热时间。可降低的电动马达驱动的升降工作台,确保了铸瓷工艺的装料简单方便。 亮点是特别开发的控制器D580,配备彩色高对比度的6.8英寸触摸显示屏。可以在大触摸屏上进行直观的程序输入。程序可以以图形和表格的形式显示。真空铸瓷炉可自由编程。许多制造商程序可以从纳博热网站的下载区免费下载并加载到控制器上。 作为纳博热控制器的强大补充,使用免费的MyNabertherm应用程序,可以通过移动设备方便地在线监控熔炉。可以跟踪程序进度,推送通知将提供有关故障的信息。 对于真空工艺,可进行预抽真空 高品质、自由辐射的加热元件 通过炉膛的全方位加热实现非常好的温度均匀性 由条纹不锈钢板制成的双层通风炉壳,表面温度低、稳定性高 专门使用未分类的隔热材料,依据EC法规No1272/2008(CLP)。这明确表示不使用被归类为可能致癌的铝硅酸盐棉,也称为“耐火陶瓷纤维”(RCF)。 用于放置工具、镊子、钳子和烧结盘的不锈钢架子,可以安装在炉的左边或右边 精密的、电动齿带驱动的工作台,带按钮操作,可实现程序控制开启冷却 通过压缩空气驱动气动压力机 压力可调 由于加热容量大,储存热量低,可以实现较短的工艺时间 S型热电偶 交货范围包括装料套件,含带陶瓷销用于精确定位烧制物品的烧结盘、镊子和用于温度校准的银制试样套件 触屏操作的控制器D580是专门为带预制程序的烧制工艺开发的 免费下载所有常用的烤瓷和铸瓷程序,无需注册用户帐户即可通过U盘将程序导入控制器 MyNabertherm ...

熔化炉
熔化炉
PF PRO

温度范围: 0 °C - 1,200 °C

... 传统陶瓷炉设计用于焙烧所有陶瓷修复产品:中低熔化温度下的传统瓷器、长石、玻璃、二硅酸锂基陶瓷、金属分层、氧化锆或完整陶瓷系统。各种可用的程序以及烘烤周期的精确执行确保了可长期重复的最佳效果。 它配备了 - 实用直观的用户界面 - 多圈编码器,可自由选择多种可编程工作参数 - 大型图形显示屏,显示所有烘焙周期的基本数据 - 最新一代石英加热室。 标准配置包括干式真空泵。 特点 16 位微处理器 可编程和升级的闪存 100 种程序可用于烧制传统陶瓷 编程阶段完全自由,所有功能均可根据用户要求进行调整 干燥阶段,烧瓶可打开或关闭 具有两个温度阈值的循环能力,专门用于研磨二硅酸锂的加工 真空度调节 不同的冷却模式,即使在密闭腔室中也可以非常缓慢地冷却 带有石英过滤辐射的最新一代烧瓶,可充分利用红外线 无需定期校准 陶瓷蜂窝支架和 ...

压制炉
压制炉
Pro 200

温度范围: 32 °F - 2,200 °F

... Pro 200 和 Pro Press 200 瓷器炉经济实惠,但采用尖端技术智能设计。 它们具有先进的循环,用于 e.max®、Ceram®、Wol-Ceram®、Captek™、烧结合金和先进的瓷器产品。 所有 Pro 系列瓷器炉都标准配备真空泵和 3 年保修或 3 750 个马夫小时(仅限美国和加拿大)。特点:200 程序存储器扩展内存和更快的逻辑板允许用户使用大量的瓷器快速酷喷气冷却莫夫饼两倍的速度 Pro 200Master Suite 新的基于图形的应用程序,使用户能够直接从他们的 ...

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Whip Mix Corporation
供暖炉
供暖炉
CERAMICMASTER PRESS PRO

温度范围: 0 °C - 1,200 °C
容量: 22 l

... 用于金属、纯瓷和压制陶瓷的自动可编程牙科炉 专为所有类型的牙科金属、纯瓷和压制陶瓷设计 压制过程中不需要压缩机 自动校准温度 有255个单独的程序可供选择 可选择将程序数量增加到400个 完全控制的过程 - 每个程序中都有可编程的参数 改进的自我诊断和自动校准系统 7''TFT显示屏,带保护性钢化玻璃 传感器按钮 图形化显示过程的进展 带有石英螺旋管加热元件的加热器 铂/铑热电偶 短暂断电后程序自动继续进行 程序参数的USB传输 损伤的远程分析 配件。 隔离压力表 ...

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VOP
供暖炉
供暖炉
CERAMICMASTER

温度范围: 0 °C - 1,200 °C
容量: 22 l

... 用于金属和纯陶瓷的自动可编程牙科炉。 为所有现有类型的牙科金属陶瓷设计 255个独立程序 完全受控的过程 - 每个程序中有16个可编程的参数 改进的自我诊断和自动校准系统 7''TFT显示屏,带保护性钢化玻璃 传感器按钮 图形化显示过程的进展 带有石英螺旋管加热元件的加热器 铂/铑热电偶 短暂断电后程序自动继续进行 程序参数的USB传输 损伤的远程分析 配件。 隔离台 Ref.№ 122000025 烧制托盘 Ref.№ 122000026 销钉 Ref.№ ...

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VOP
供暖炉
供暖炉
Ceramicmaster Press

温度范围: 0 °C - 1,200 °C
容量: 22 l

... 可编程牙科炉,用于金属、纯陶瓷和压制陶瓷 专为所有类型的牙科金属、纯瓷和压制陶瓷设计 压制过程中不需要压缩机 200个操作程序 完全控制的烧制过程 改进的自我诊断系统 自动校准温度 石英马弗炉 配件。 隔离压力表 Ref.№ 122000022 陶瓷嵌件100克环№ 122000023 陶瓷嵌件200g环状物 Ref.№ 122000023 隔离台 Ref.№ 122000025 烧制托盘 Ref.№ 122000026 销钉 Ref.№ 122000027 真空泵PVM122 ...

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VOP
烘干炉
烘干炉
BW-VCD series

温度范围: 10 °C - 250 °C
容量: 25, 30, 53, 90, 210 l

... I.应用: 广泛应用于生物化学、化学制药、医疗卫生、农业和环境保护等领域,如粉末干燥、烘烤和玻璃容器的杀菌消毒等。特别适用于热敏性、易裂变、氧化性物质和复杂化合物的快速干燥处理。 二、特点 1.P.I.D. 环境扫描微处理控制器可准确可靠地控制温度。 2.预设和实际温度的数字 LED 显示屏。 3.工作舱由优质板材或耐腐蚀不锈钢制成。 4.每台设备都配有高温安全玻璃观察窗,可清晰观察工作室内的物体。 5.腔室门的气密性可调,并配有全成型硅橡胶门密封圈,以保证腔室内的高真空度。 6.超温安全切断恒温器配有声光报警器。 7.真空干燥箱制造精良,免维护。 ...

火化炉
火化炉
Cremulator®

... 人性化的灰机/灰处理机是由DFW欧洲公司在20世纪90年代初专门开发的,用于优化灰渣处理的工作条件,并取得了成功。这种人性化的灰分处理机现在已经成为欧洲最畅销的灰分机之一,并且从2000年起也被销往中国。 人工火化机/灰烬处理器的好处 在分离了较大的黑色金属和有色金属部分后,进一步的灰烬处理在火化机中进行。在这里,有色金属和小铁件通过两个收集抽屉从进口灰渣中分离出来。灰烬粉碎机将把剩余的灰烬残渣研磨成粉末,可以储存在灰烬罐中,以便进一步处理。灰烬处理机还具有许多额外的优势,即。 可锁定的有色金属托盘。 处理时间只有90秒。 自动填充任何类型的瓮。 操作简单。 安全。 操作人员在一个几乎无尘的环境中工作。 灰盘可以适应任何类型的灰盘。 维护成本低。 ...

供暖炉
供暖炉
V-65

温度范围: 250 °C
容量: 65 l

... Aditya Scientific的V-65真空烘箱用于真空干燥,这是一种传质操作,通过产生真空来去除物质(通常是湿固体)中存在的水分。在食品加工、制药、农业、纺织等化学加工行业,干燥是去除水分的重要操作。真空干燥一般用于干燥具有吸湿性和热敏感性的物质。它的原理是产生真空,使室压降低到溶剂的蒸汽压以下,使其沸腾。在真空泵的帮助下,待干燥物质周围的压力降低。这就降低了该产品内部溶剂的沸点,从而显著提高了蒸发率。其结果是显著提高了产品的干燥速度。真空干燥过程是在压力降低、相对湿度比环境压力低的情况下进行的批量操作,可以加快干燥速度。 Aditya ...

供暖炉
供暖炉
MS WARME

温度范围: 0 °C - 1,200 °C

... 传统陶瓷炉,可烧制任何种类的陶瓷。电子板控制,简易设置系统,用于编程阶段选择。所有功能均可调节。执行精确。石英加热室。 MS WARME UP 型 陶瓷窑炉,用于专业用途,可精确处理任何类型的陶瓷。陶瓷注射由压缩空气驱动的活塞启动。注入过程是在固体陶瓷加热到可塑状态后进行的。窑炉必须与空气压缩机连接。注射压力可通过手动压力调节器进行设置和调节,并通过压力计指示器进行监控。 特点 16 位功能强大的微处理器 编码器,可自由选择多种工作参数。可记忆多达 100 ...

供暖炉
供暖炉
BHF2020

带泵加热真空炉 Burhani真空烤箱配有数字电子控制,内置超温 保护,以及适用于一定范围的完全灵活的真空/吹扫/释放系统 包括那些需要高温降低温度的应用 大气层。 这些加热的真空烤箱腔室提供精确,快速的加热和加热 转移有助于最大程度地减少操作时间。这些真空烤箱符合标准 在真空条件下对加热应用的要求最高。 LED 显示实际温度和设定点温度。温度范围可根据 客户要求。数字微处理器控制 加热的真空脱气是使用真空去​​除的过程 来自化合物的气体在以下情况下被截留在混合物中 混合成分。为了确保混合时无气泡 树脂和硅橡胶以及慢速固化的硬质树脂,真空 室是必需的。需要一个小的真空室来消除 物料凝固前的气泡。这个过程很公平 直截了当。铸造或模制材料根据 向制造商指示。 加热真空脱气室的产品特点 不锈钢腔室具有长期的气密性能。 重型工业加热系统 可调数字温度显示和控制器 可根据要求提供各种温度范围 Burhani真空室的顶部有一个圆形边缘,用于保护硅胶垫圈。

烧结炉
烧结炉
Vacuum Therm

温度范围: 20 °C - 1,300 °C
容量: 0.1 l - 2.5 l

... 一种用于烧结金属和在惰性气体环境下对钛、钴铬等金属进行热稳定的炉子,特别是用于钛合金的退火。 由于在工艺开始时采用了真空密封,确保了空气的最小存在,并显著减少了惰性气体(氩气)的消耗。在处理氧气反应性材料时也是非常重要的,例如钛,其O₂百万分之一(ppm)必须低于200,或0.02%。 程序控制是专门为Arrow VacuumTherm开发的。使用方便,只需按一下按钮就可以进行退火。炉子根据用户定义的参数进行加热。 技术数据:230 V, 50/60 Hz, ...

热处理炉
热处理炉
XFL series

温度范围: 0 °C - 200 °C
容量: 20 l - 512 l

... 我们的真空炉易于使用,易于操作,易于控制。 它们具有实用且实用的设备,可适应所有真空应用。 它们适用于敏感产品的温和干燥,可氧化材料的热处理,粉末和颗粒的快速干燥... 在制药,化妆品,塑料,电子,化工,农业食品... 实验室或行业。 优点: -温度范围:高达 200° C(可选 300° C)。 -低真空(高达 1 毫巴)。 -控制器的精度:0,1° C -温度时间波动:小于 ± 0,2° C -通过放置在工作体积中的 PT100 探头进行温度测量,以显示最精确的温度。 ...

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