温度范围: 20 °C - 1,300 °C
容量: 0.1 l - 2.5 l
... 一种用于烧结金属和在惰性气体环境下对钛、钴铬等金属进行热稳定的炉子，特别是用于钛合金的退火。 由于在工艺开始时采用了真空密封，确保了空气的最小存在，并显著减少了惰性气体（氩气）的消耗。在处理氧气反应性材料时也是非常重要的，例如钛，其O₂百万分之一（ppm）必须低于200，或0.02%。 程序控制是专门为Arrow VacuumTherm开发的。使用方便，只需按一下按钮就可以进行退火。炉子根据用户定义的参数进行加热。 技术数据：230 V, 50/60 Hz, 16 A, 最大3500 W。 - ...
温度范围: 0 °C - 1,200 °C
... 这种新开发的Master Plus是标准化的、紧凑的、易于使用的。 这种可编程的瓷器炉允许技术人员对多达500个课程进行编程。 160道工序已预先编程，可根据技术人员的喜好进行调整。 多达30个程序可以作为一个2步烧制过程使用。 它的手动模式有助于技术人员在烧制过程中改变设置。 Master Plus配有真空泵和2年有限保修（马弗尔有6个月的保修）。 ...
温度范围: 0 °C - 1,200 °C
... 陶瓷炉的设计和制造，确保每种陶瓷的最佳性能和可靠性。 带 电子真空控制。 配有大型 LCD 显示屏。 与石英室。 最高温度 1200° C 自我校准程序。 手动校准。 真空 759,5毫米/汞柱。 输入电压 230 V 交流50/60赫兹. 整体尺寸：40 宽 x 45 高 x 53 厘米。 功率（无泵）1200 W. 重量 29 公斤。 EFP 100-传统的陶瓷炉。 随着 100 个程序，每个程序由 15 个参数组成，可以 由操作员预设 ...
温度范围: 40 °C - 200 °C
容量: 8, 27, 64 l
... SJ - VAC系列适用于真空条件下40℃~200℃的干燥温度范围。 铝制的内部组件可以补充真空条件下的传热过程。 特点 在真空条件下有很好的均匀性、精确性和稳定性 P.I.D控制系统/不锈钢304（腔体），铝架/玻璃-羊毛腔体绝缘/硅橡胶垫圈 方便的用户友好设计 简单的真空控制/温度玻璃窗便于监测/自动调谐/顶部的控制板 / 直观和简单的控制器（数字和LED指示器） 安全装置 防止漏电 ...
... 带泵加热真空炉 Burhani真空烤箱配有数字电子控制，内置超温 保护，以及适用于一定范围的完全灵活的真空/吹扫/释放系统 包括那些需要高温降低温度的应用 大气层。 这些加热的真空烤箱腔室提供精确，快速的加热和加热 转移有助于最大程度地减少操作时间。这些真空烤箱符合标准 在真空条件下对加热应用的要求最高。 LED 显示实际温度和设定点温度。温度范围可根据 客户要求。数字微处理器控制 加热的真空脱气是使用真空去除的过程 来自化合物的气体在以下情况下被截留在混合物中 混合成分。为了确保混合时无气泡 树脂和硅橡胶以及慢速固化的硬质树脂，真空 室是必需的。需要一个小的真空室来消除 物料凝固前的气泡。这个过程很公平 直截了当。铸造或模制材料根据 向制造商指示。 加热真空脱气室的产品特点 不锈钢腔室具有长期的气密性能。 重型工业加热系统 可调数字温度显示和控制器 可根据要求提供各种温度范围 Burhani真空室的顶部有一个圆形边缘，用于保护硅胶垫圈。 ...
温度范围: 0 °C - 200 °C
容量: 20 l - 512 l
... 我们的真空炉易于使用，易于操作，易于控制。 它们具有实用且实用的设备，可适应所有真空应用。 它们适用于敏感产品的温和干燥，可氧化材料的热处理，粉末和颗粒的快速干燥... 在制药，化妆品，塑料，电子，化工，农业食品... 实验室或行业。 优点： -温度范围：高达 200° C（可选 300° C）。 -低真空（高达 1 毫巴）。 -控制器的精度：0,1° C -温度时间波动：小于 ± 0,2° C -通过放置在工作体积中的 PT100 探头进行温度测量，以显示最精确的温度。 ...
France Etuves
温度范围: 0 °C - 1,200 °C
... 传统陶瓷炉设计用于焙烧所有陶瓷修复产品：中低熔化温度下的传统瓷器、长石、玻璃、二硅酸锂基陶瓷、金属分层、氧化锆或完整陶瓷系统。各种可用的程序以及烘烤周期的精确执行确保了可长期重复的最佳效果。 它配备了 - 实用直观的用户界面 - 多圈编码器，可自由选择多种可编程工作参数 - 大型图形显示屏，显示所有烘焙周期的基本数据 - 最新一代石英加热室。 标准配置包括干式真空泵。 特点 16 位微处理器 可编程和升级的闪存 100 种程序可用于烧制传统陶瓷 编程阶段完全自由，所有功能均可根据用户要求进行调整 干燥阶段，烧瓶可打开或关闭 具有两个温度阈值的循环能力，专门用于研磨二硅酸锂的加工 真空度调节 不同的冷却模式，即使在密闭腔室中也可以非常缓慢地冷却 带有石英过滤辐射的最新一代烧瓶，可充分利用红外线 无需定期校准 陶瓷蜂窝支架和 ...
温度范围: 1,200 °C
容量: 3 l - 30 l
... 马弗炉是一个具有稳定的PID温度控制系统的微处理器控制室。配备了15至30分钟的加热速度，该炉膛采用真空成型陶瓷纤维，在高温下没有功率下降。温度均匀，对加热元件（HRE）有很好的保护作用。一键式启动按钮，用于预设程序，腔体过热时发出警报信号。 6L马弗炉是一个微处理器控制的炉膛，具有稳定的PID温度控制系统。配备了15至30分钟的加热速度，炉膛采用真空成型陶瓷纤维，在高温下没有功率下降。温度均匀，对加热元件（HRE）有很好的保护作用。一键式启动按钮，用于预设程序，腔体过热时发出警报信号。 8升马弗炉是一个微处理器控制的炉膛，具有稳定的PID温度控制系统。配备了15至30分钟的加热速度，炉膛采用真空成型陶瓷纤维，在高温下没有功率下降。温度均匀，对加热元件（HRE）有很好的保护作用。一键式启动按钮，用于预设程序，腔体过热时发出警报信号。 12L马弗炉是一个微处理器控制的炉膛，具有稳定的PID温度控制系统。配备了15至30分钟的加热速度，该炉膛采用真空成型陶瓷纤维，在高温下没有功率下降。 ...
温度范围: 250 °C
容量: 65 l
... Aditya Scientific的V-65真空烘箱用于真空干燥，这是一种传质操作，通过产生真空来去除物质（通常是湿固体）中存在的水分。在食品加工、制药、农业、纺织等化学加工行业，干燥是去除水分的重要操作。真空干燥一般用于干燥具有吸湿性和热敏感性的物质。它的原理是产生真空，使室压降低到溶剂的蒸汽压以下，使其沸腾。在真空泵的帮助下，待干燥物质周围的压力降低。这就降低了该产品内部溶剂的沸点，从而显著提高了蒸发率。其结果是显著提高了产品的干燥速度。真空干燥过程是在压力降低、相对湿度比环境压力低的情况下进行的批量操作，可以加快干燥速度。 Aditya ...
温度范围: 0 °C - 800 °C
... C860M 一体化灼烧残渣测定系统是一款基于重量法的紧凑型自动化仪器，用于测定灼烧残渣和灰分含量。该设备适用于药品、药品包装材料、食品、食品接触材料（FCM）及化学试剂，并符合相关药典及食品/化学检测标准。
特性
- 数据可追溯 — 配备 Labthink 全自动抓手，可快速搬运与称量16个试验杯；双独立腔体设计将灼烧与称量分离，避免高温/高湿对天平的干扰；可选德国进口触摸电子天平，重复性可达0.05 mg；可视化、可追溯的天平设计，带快速拆卸自校重量以便校验。
- 安全合规