热处理炉 XFL series

实验室真空台式

我们的真空炉易于使用，易于操作，易于控制。 它们具有实用且实用的设备，可适应所有真空应用。 它们适用于敏感产品的温和干燥，可氧化材料的热处理，粉末和颗粒的快速干燥... 在制药，化妆品，塑料，电子，化工，农业食品... 实验室或行业。 优点： -温度范围：高达 200° C（可选 300° C）。 -低真空（高达 1 毫巴）。 -控制器的精度：0,1° C -温度时间波动：小于 ± 0,2° C -通过放置在工作体积中的 PT100 探头进行温度测量，以显示最精确的温度。