磁性生产集成系统 PlasmaPro 100 Polaris

单晶圆刻蚀技术的进展 凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。 PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。 高效的刻蚀速率 低购置成本 专为腐蚀性的化学成分而设计 出色的刻蚀均匀性 适用于蓝宝石的静电压盘技术 蓝宝石和硅上的GaN 高导通抽气系统 可与其它PlasmaPro系统集成 PlasmaPro 100 Polaris专为刻蚀坚硬材料（如GaN，蓝宝石和SiC）所需要使用的腐蚀性化学气体而设计，可在最大直径200mm的晶圆上实现快速均匀刻蚀。 PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。 主动冷却电极 - 在刻蚀过程中保持样品温度 高功率ICP源 - 产生高密度等离子体 可靠的硬件且易于维护 - 可保持长时间正常运转 磁场垫环 - 增强离子的控制和均匀性 静电压盘技术 - 适用于蓝宝石，以及蓝宝石和硅基的GaN 加热的腔室内衬 - 优化以减少腔壁沉积 先进的自动匹配单元（AMU） - 提供快速，高效和准确的匹配，确保工艺的高度精准重复性