生产集成系统 FlexAL

FlexAL系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。 查看全文 > 在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD 集群式配置保证始终于真空下传送衬底 盒式对盒式操作可提高产能以适于量产 对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性 等离子体ALD可进行低温工艺 使远程等离子体以确保低损伤 通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺 可处理高达200mm的晶圆 ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。 牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。 气体/液体源前驱体模式上 - 一体化手套箱 —— 实时转换 一体化端口 - 允许添加实时椭偏仪测量工具 集群式配置 - 始终于真空下传送衬底 盒式对盒式操作 - 可提高产能以适于量产 机器手臂与片盒式 - 可处理100mm，150mm或200mm晶圆（无需额外设备进行晶圆交换） 所有系统都可以放置于超净间内或嵌入墙体 - 易于放置 自动化的200mm晶圆真空传送 - 工艺灵活性 纳米电子 高K栅氧化物 存储电容电介质 用于Cu互连的高深宽比扩散隔层 用于OLED和聚合物的无针孔钝化层 用于晶体硅太阳能电池的钝化 用于微流体和MEM的高保形涂层 纳米多孔结构的涂层 生物MEMS 燃料电池 学习 原子尺度工艺