FIB/SEM显微镜 NX5000

实验室用于研究落地式

日立Ethos FIB-SEM集成了最新一代场发射扫描电子显微镜（FE-SEM），具有卓越的电子束亮度和稳定性。Ethos可在低电压下提供高分辨率成像，并结合离子光学系统，实现纳米级精密切割。 特点 主要特点 1. 配备双透镜模式的高性能场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）柱 超高清分辨率观察（HR模式：半透镜内模式） 实时高精度终点检测（FF模式：无场模式（时分复用模式）） 2. 高通量材料加工 高离子电流密度下的超快速加工（最大束流：100 nA） 用户可编程脚本，实现自动加工与观察 3. 微取样系统 完全集成的样品取向控制，有效抑制“帘幕效应”（ACE技术） 可制备任意取向的均匀薄片，满足透射电子显微镜（TEM）样品制备需求 4. 支持三束流技术，提供卓越的成像质量 低加速度惰性气体离子束材料加工 创新功能可减少与镓离子相关的及其他刻蚀伪影 5. 大型多端口腔室和样品台，适用于多种应用 支持大尺寸样品的系统，载样台稳定性卓越 全范围增强型长距离跟踪（155 x 155mm） 精密电子光学系统与多信号检测 Ethos SEM 柱由磁场和静电场复合物镜系统组成，配置为两种透镜模式。 高分辨率（HR）模式通过将样品浸入透镜系统的磁场中，实现极致分辨率的样品观察。无场（FF）模式提供实时聚焦离子束（FIB）加工，可进行高精度的终点刻蚀。