温和、高效的烃类去除,实现更清晰的SEM和TEM成像
基于紫外线的清洁技术,无需化学试剂或气体供应
快速、无损伤地去除烃类污染物
触摸屏界面配有工艺配方存储功能,操作简便且可重复
双重功能:一台设备即可完成样品清洁与存储
真空控制清洁,适用于多种样品类型
概述
碳氢化合物污染是影响高质量SEM和TEM成像的最常见障碍之一。无论是在样品制备过程中引入,还是在成像过程中积累,这些碳基残留物都会遮蔽细微细节、扭曲数据,并浪费宝贵的时间。
日立 ZoneSEM II 和 ZoneTEM II 紫外线样品清洁仪提供了一种安全、高效且无化学药剂的方法,可在您的实验台旁直接清除此类污染物。这些紧凑型设备利用低能紫外线和活性氧,在温和清洁样品的同时,不会损坏 delicate 结构或改变表面特性。
特点与优势
ZoneSEM II 和 ZoneTEM II 清洁仪利用紫外线灯分解烃键。在氧气存在下,所用的波长会产生臭氧和活性氧物种,将烃类氧化为二氧化碳和水等挥发性化合物——无需溶剂、试剂或气体供应,即可安全地将其去除。
内置泵可提供可调节的真空度,让用户能够控制清洗强度。因此,您可以根据样品特性优化清洗过程。
用户友好的触摸屏界面使选择和运行清洗程序变得简单。借助配方记忆功能,您可以保存并调用工艺设置——这对于有多个用户或需要常规工作流程的实验室而言是理想之选。
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