高铣削速率:快速高效地制备硬质材料样品
横截面与平面铣削:针对不同应用提供灵活的选择
低温冷却(可选):减少对温度敏感样品的损伤
用户友好型界面:直观的触摸屏控制,操作简便
针对SEM和AFM优化:兼容日立及第三方显微镜
概述
日立IM4000II和IM5000离子刻蚀系统为扫描电子显微镜提供高精度样品制备。 无论您是分析金属、半导体、聚合物、陶瓷还是层状材料,这些系统都能确保获得高质量的横截面和表面抛光效果,同时将伪影降至最低。
这两款系统专为学术研究、工业质量控制和材料科学实验室设计,可提供快速、可重复的结果,是先进电子显微镜应用中不可或缺的工具。
IM4000II 是一款集横截面和/或平面刻蚀功能于一体的系统,对于需要基础样品制备工具的实验室而言,是一个灵活的选择。
更先进的 IM5000 具有更高的铣削速率和大面积横截面铣削能力,非常适合要求苛刻的应用以及需要高通量的实验室。
特点与优势
在不影响样品完整性的前提下缩短周转时间。
IM4000II 的研磨速率可达 500 μm/h,而 IM5000 则可达到 1 mm/h 或更高(针对突出部分为 100 μm 的硅样品)。
非常适合需要长时间研磨的硬质材料,如金属和半导体。
灵活制备完全符合您需求的样品。
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