最先进的宽离子束系统,用于制备适用于电子显微镜观察的超高品质横截面或平面铣削样品。
特点
横截面铣削速率:1 毫米/小时!*1
ArBlade 5000 配备了高速氩离子枪,其刻蚀速率是普通设备的两倍,性能处于行业前沿,从而大幅缩短了截面制备的处理时间。
截面宽度可达 8 毫米!
针对电子器件应用等大面积铣削需求,我们开发了革命性的横截面铣削夹持器设计,以满足更宽面积的制备需求。
大面积横截面铣削示例
(样品:电子元件,铣削时间:5 小时)
混合型:支持双铣削配置
全新的离子铣削系统同时配备横截面铣削和平面铣削模式,可满足最复杂的应用需求。
ArBlade 5000 系统配备多种夹持器,可适应广泛的应用场景。
横截面铣削
用于在不向样品施加机械应力的情况下,制备更宽且无畸变的横截面
横截面铣削示意图
平面铣削
用于去除表面层伪影,并在传统机械抛光工艺后进行最终抛光。
冷却装置*
ArBlade 5000 的低温版本可在样品处理过程中对横截面铣削台进行主动冷却。与横截面铣削台相连的集成式液氮杜瓦瓶,可有效带走离子束铣削过程中屏蔽罩和样品产生的热量。
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