概述Chemspeed AUTOPLANT PRORES 专为流程研究、化学开发和放大试验中的高通量实验而设计,适用于制药、农化和精细化工领域。
- 端到端的工艺研发与放大平台
- 支持有机与无机合成、加压反应及制备操作
- 集成结晶及下游单元操作
功能与工作流程先进的工艺开发工作站技术可实现复杂多步流程的全自动执行,真实模拟工业生产过程。系统提供灵活的反应器配置与精确控制,以优化集成反应序列。
- 单独控制的罐式反应器(体积:100、240、1'000 mL),配备精确连续进料
- AUTOPLANT 每次运行可达12–24次合成(含反应准备、执行、处理、分析);半自动 MULTIPLANT 每次运行可达6次
- 可互换搅拌器设计(桨式、扭叶、气体引入型等)
- 搅拌能力:采用桨式搅拌器时在300 rpm下可处理高达80 Pa·s的粘度,在900 rpm下可处理30 Pa·s
- 每个反应器支持多路液体、液化气体及气体连续进料;上部访问无限制
- 每个反应器独立精确控制温度与搅拌(具大温差能力,例如在主动冷却下相邻反应器间可超过130°C差异)
- 内部及/或夹套温控
- 耐压能力最高达100 bar,配套安全装置
- 并行高性能量热学和粘度数据采集
- PAT 接口支持原位探头(如 pH、UV-VIS、IR、Raman、PSD、量热学)
- 气体消耗测量
- Dean Stark 水封、蒸馏桥、用于惰化、结晶等的真空系统
- 支持萃取、过滤、蒸发、结晶、蒸馏等单元操作
- 带通风罩以实现安全且受控的操作(敏感化学品、低温运行)
- AUTOSUITE 软件 — 拖放式实验设计;可集成至 LIMS、ELN、数据分析及 AI/ML 闭环工作流
- 可选集成:在线台式 NMR(例如 80 MHz Fourier RxnLite),支持 H/F/C/P/Si/B 核、多维 1D/2D 光谱;在线流动池或离线 5 mm 管;永磁体设计
- 可选集成:在线台式 XRD(示例:Bruker D6 Phaser、Malvern Aeris),含样品交接站及软/硬件集成
优势通过复制工业生产条件并整合分析与自动化,支持高通量、高保真度的流程研究与放大,能加速开发周期并提升再现性。
技术参数 / 规格- 反应器体积:100 mL、240 mL、1'000 mL(单独控制)
- 通量:AUTOPLANT 每次运行可达 12–24 次合成;半自动 MULTIPLANT 每次可达 6 次
- 搅拌:桨式、扭曲叶片、气体引入型;混合能力 80 Pa·s @ 300 rpm,30 Pa·s @ 900 rpm
- 温度控制:每个反应器独立;内部及/或夹套;大温差能力(例如 >130°C)
- 耐压等级:最高 100 bar(配安全系统)
- 进料:精确连续的液体、液化气体和气体进料;每个反应器多路进料
- 分析 / PAT:pH、UV-VIS、IR、Raman、PSD、量热学;气体消耗测量
- 单元操作:萃取、过滤、蒸发、结晶、蒸馏、Dean Stark 水封、蒸馏桥、真空/惰化
- 可选集成:在线台式 NMR(永磁、多核、1D/2D)、在线台式 XRD(含交接站)
- 软件:AUTOSUITE(拖放),可集成 LIMS、ELN、数据分析、AI/ML 闭环工作流