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倍率: 3,000,000 unit
空间分辨率: 0.8, 1.2, 0.4 nm
专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。 特点 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。 0.4 nm / 30 kV (SE) 1.0 nm / 1 kV (SE) 0.34 nm / 30 kV (STEM) 用改良的高真空性能和优异的电子束稳定性来实现高效率截面观察。 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。 具有电子光学系统自动调整功能。
倍率: 20 unit - 8,000,000 unit
空间分辨率: 0.08, 0.1 nm
通过单极片实现0.078 nm的STEM空间分辨率和高样品倾斜度、高立体角EDX。 透射电子显微镜除了延续了日立公司配备的球面像差校正器的功能、自动校正功能，像差校正后的SEM图像和对称Dual SDD技术等特点。还融汇了透射电子显微镜HF系列中所积累的技术。 对于包括高端用户在内的广泛用户，我们提供亚Å级空间分辨率和高分析性能以及更多样化的观察和分析方法。 特点 标配日立生产的照射系统球差校正器（附自动校正功能） 搭载具有高辉度、高稳定性的冷场FE电子枪 镜体和电源等的高稳定性使机体的性能大幅度提升 ...
倍率: 1,000,000, 800,000, 600,000 unit
空间分辨率: 0.19, 0.14, 0.2 nm
"RuliTEM"120 kV透射电子显微镜系列，包含配备高衬度透镜，实现大视野、高对比度观察的HT7800和配备高分辨率透镜的HT7830。 全新操作可应对日常工作。 我们将竭诚为您提供合适的TEM解析解决方案。 特点 日立的双隙物镜设计，支持低倍率下的大视野高反差观察与高分辨率观察 凭借在明亮环境中的数字化操作环境和各种自动功能，从初学者到熟练者均可操作 通过全新设计的"Image ...
空间分辨率: 4, 60, 0.7, 50, 1.5 nm
“Ethos”采用日立高新的核心技术--高亮度冷场发射电子枪及新研发的电磁复合透镜，不但可以在低加速电压下实现高分辨观察，还可以在FIB加工时实现实时观察。 SEM镜筒内标配3个探测器，可同时观察到二次电子信号的形貌像以及背散射电子信号的成分衬度像；可非常方便的帮助FIB找寻到纳米尺度的目标物，对其观察以及加工分析。 另外，全新设计的超大样品仓设置了多个附件接口，可安装EDS*1和EBSD*2等各种分析仪器。而且NX5000标配超大防振样品台，可全面加工并观察最大直径为150mm的样品。 因此，它不仅可以用于先进半导体器件的检测，而且还可以用于从生物到钢铁磁性材料等各种样品的综合分析。 核心理念 1. ...
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