HITACHI实验室显微镜

倍率: 20 unit - 2,000,000 unit
空间分辨率: 0.6, 0.9 nm

... 随着快速数据采集和数据处理技术的发展，电子 显微镜进入了一个不仅重视数据质量，而且注重其采集过程的时代。SU8700作为一款面向新时代的SEM，在日立电镜贯有的高图像质量和高稳定性的基础上，增加了包括自动获取数据等高通量的功能。 超高分辨观察和超强分析能力 日立的高亮度肖特基场发射电子枪可同时支持超高分辨观察和快速微束分析。在不使用样品台减速的情况下，仅用0.1 kV的低加速电压仍可进行高分辨观察，适应更多应用场景。同时，可搭配多种新型探测器和其他丰富的选配项，满足更多的观测需求。 ...

倍率: 6, 8,000,000 unit
空间分辨率: 15, 4 nm

... 凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”，这个功能可弥补电子 显微镜上难以找准视野的缺点，实现最直观的视野移动。 尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子 显微镜，仍可实现4.0 nm的分辨率 凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器（UVD*2），可在低加速/低真空下观察时实现最高的画质 全新的用户界面，无论用户的熟练程度如何， ...

倍率: 10 unit - 250,000 unit
长度: 617 mm

... 我们以“更高画质、更易于使用、更易于观察”为理念，开发出TM4000系列。在此基础上，我们又推出功能更为多样的TM4000Ⅱ系列。 为您提供全新的观察和分析应用。 操作简单且快捷 观察图像只需 3 分钟。 可快速观察图像，并导出测试报告。. Report Creator可让您轻松制作报告 只需选择图像和模板，就可以制作Microsoft Word、Excel、PowerPoint格式的报告 即便是绝缘物样品，也无需预处理，就可直接进行观察。 “荷电减轻模式”可抑制荷电现象 对于容易产生荷电的样品，可使用“荷电减轻模式”，在抑制荷电的状态下进行观察。 只需用鼠标在软件上点击即可切换到“荷电减轻模式”。 可在低真空的条件下进行二次电子像（表面形状）观察。 无需预处理，也可以观察绝缘物和含水、含油样品的表面 不仅是观察传统的导电性样品，还可以在无预处理的条件下观察绝缘物和含水、含油样品。可快速进行二次电子像与背散射电子像之间的切换。 高感度低真空二次电子检测器 采用高感度低真空二次电子检测器(UVD)。通过检测由于电子线与残留气体分子之间的碰撞而产生的光，可以观察带有二次电子信息的图像。此外，通过控制该检测器，来检测电子照射所产生的光，可以获得CL信息（UVD-CL：带有CL信息的图像）。 TM4000Ⅱ/TM4000Plus ...

倍率: 20 unit - 8,000,000 unit
空间分辨率: 0.08, 0.1 nm

... 通过单极片实现0.078 nm的STEM空间分辨率和高样品倾斜度、高立体角EDX。 透射电子 显微镜除了延续了日立公司配备的球面像差校正器的功能、自动校正功能，像差校正后的SEM图像和对称Dual SDD技术等特点。还融汇了透射电子 显微镜HF系列中所积累的技术。 对于包括高端用户在内的广泛用户，我们提供亚Å级空间分辨率和高分析性能以及更多样化的观察和分析方法。 特点 标配日立生产的照射系统球差校正器（附自动校正功能） 搭载具有高辉度、高稳定性的冷场FE电子枪 镜体和电源等的高稳定性使机体的性能大幅度提升 ...

倍率: 1,000,000, 800,000, 600,000 unit
空间分辨率: 0.19, 0.14, 0.2 nm

... "RuliTEM"120 kV透射电子 显微镜系列，包含配备高衬度透镜，实现大视野、高对比度观察的HT7800和配备高分辨率透镜的HT7830。 全新操作可应对日常工作。 我们将竭诚为您提供合适的TEM解析解决方案。 特点 日立的双隙物镜设计，支持低倍率下的大视野高反差观察与高分辨率观察 凭借在明亮环境中的数字化操作环境和各种自动功能，从初学者到熟练者均可操作 通过全新设计的"Image Navigation"功能，可轻松搜寻视野和拍摄图像 配备全自动图像拼接功能 ...

倍率: 5 unit - 600,000 unit
空间分辨率: 0.9, 2.5 nm

... 用途广泛的扫描电子 显微镜（SEM）专为满足学术界和工业界对高性能、大样品处理以及用户友好型自动化成像的需求而设计。 日立 SU3800SE 和 SU3900SE 扫描电子 显微镜为您提供适用于广泛应用场景的成像与分析解决方案。这些仪器具备高分辨率成像、便捷的样品导航以及先进的自动化功能，可在不同应用场景中提供可靠且一致的结果。 无论您需要处理标准样品还是大型工业材料，这些扫描电子 显微镜都能凭借其多功能性和稳定性，助力您实现 实验 室的目标。SU3800SE ...

空间分辨率: 60, 4 nm

... 日立Ethos FIB-SEM集成了最新一代场发射扫描电子 显微镜（FE-SEM），具有卓越的电子束亮度和稳定性。Ethos可在低电压下提供高分辨率成像，并结合离子光学系统，实现纳米级精密切割。 特点 主要特点 1. 配备双透镜模式的高性能场发射扫描电子 显微镜（FE-SEM）柱 超高清分辨率观察（HR模式：半透镜内模式） 实时高精度终点检测（FF模式：无场模式（时分复用模式）） 2. 高通量材料加工 高离子电流密度下的超快速加工（最大束流：100 ...

空间分辨率: 1.6, 2.1, 4 nm

... 采用了经过优化的布局，可实现真正的高分辨率连续切片，以满足3D结构分析以及透射电子 显微镜（TEM）和3DAP分析方面的最新需求。 NX9000 FIB-SEM系统可在先进材料、电子器件、生物组织以及众多其他应用领域中，实现最高精度的材料加工。 特点 SEM 柱和 FIB 柱呈正交布置，以优化 3D 结构分析时的柱体定位。 高亮度冷场发射电子源与高灵敏度光学系统的结合，支持从生物组织到磁性材料等广泛材料的分析。 微取样系统和三束系统可为透射电子 显微镜（TEM）和原子探针应用提供高质量的样品制备。 实时离子束刻蚀与正入射观察 ...

空间分辨率: 2.8, 60, 4, 3.5 nm

... NX2000 是专为半导体应用（利用 KLARF 坐标导入进行缺陷分析、TEM 薄片提取、器件开发）而优化的 FIB-SEM。样品台的 X、Y 行程为 205 x 205 毫米，甚至可以在不旋转样品的情况下对 200 毫米晶片进行全表面处理。垂直安装的 Ga FIB 可在 30 kV 电压下提供高达 100nA 的离子电流。FE-SEM 柱配备了冷场发射器。 ...