VACUU·SELECT真空控制器采用图形用户界面,内置预定义应用,可以简化实验室工作
因其强大的真空泵,使过程时间很短,即使针对很大的气载量仍能提供精确的(无滞后)真空控制
满足高真空需求,如非常大量的绝大多数高沸点溶剂
膜片寿命极长,将操作成本和维修成本降到最低
优异的环境友好性,极低的能源损耗,无水无油无需介质,高效的溶剂回收率
化学隔膜泵 功能描述
VARIO® DUO真空系统是由两台独立的VARIO®真空系统组成,在进气口端并联,并通过一台真空控制器VACUU·SELECT同时进行操控。真空条件可精确控制。两台独立的真空泵转速可以按照真空需求精确控制。控制器既可以实现无需用户预设参数的全自动蒸馏,也可以进行特定的、可重复地程序编程。同时也可以通过数字或模拟界面集成到已有的真空控制系统中。超强的耐化学腐蚀特性为化工和制药行业提供了极佳的解决方案-且无需水或者油等运行介质。 新型VARIO® DUO真空系统具有独特的强耐化学腐蚀性、极好的极限真空度和高抽速、低能耗、无需任何工作介质的特点,使其成为现今公斤级实验室、中试和小型生产中许多应用的真空源。它们也可作为大型VACUU·LAN®真空网络安装中的泵源,或作为一款环保型产品替代现有中央真空系统的泵源。VARIO®变频控制能持续提供所需的真空,并按需自动调节两个泵的转速。此外还可以延长泵的维护间隔。极低的噪音允许其放置在工作区内。
技术数据和图表
最低环境温度(运行),单位:℃。 - 10 °C -
最高环境温度(运行),单位:℃。 - 40 °C
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最低环境温度(存放),单位:℃。 - -10 °C
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最高环境温度(存放),单位:℃。 - 60 °C
噪音水平 50 Hz/1500 Upm/62% (VARIO)/1500 Upm (VARIO-SP)/12500 Upm (VACUU·PURE®) - 53 dBA -
ATEX-认证 - II 3/- G Ex h IIC T3 Gc X Internal Atm. only -
NRTL 标准 - 否 -
提供的选项 - 真空系统安装完毕,连接即可使用,附带说明书 -
标称电压范围1 - 200-230 V -
电源频率1 - 50-60 Hz