热处理炉 FVA-12
烧结科学研究通用应用

热处理炉 - FVA-12 - Labotemp Systems - 烧结 / 科学研究 / 通用应用
热处理炉 - FVA-12 - Labotemp Systems - 烧结 / 科学研究 / 通用应用
热处理炉 - FVA-12 - Labotemp Systems - 烧结 / 科学研究 / 通用应用 - 图像 - 2
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产品规格型号

功能
烧结, 热处理
应用
实验室, 科学研究, 通用应用
类型
真空
所加工的质料
用于陶瓷, 用于金属
温度调节
高温, 水套
配置
台式, 紧凑型
其他特性
高性能
温度范围

最少: 1,600 °C
(2,912 °F)

最多: 1,700 °C
(3,092 °F)

容量

最少: 8 l
(2.11 gal)

最多: 8 l
(2.11 gal)

产品介绍

产品概述
Labotemp 真空炉 FVA-12 是一款用于高级热处理和材料研究的高温真空/受控气氛炉。设备配备8 L 炉腔(200 × 300 × 120 mm),最高温度1700°C(工作温度典型1600°C),采用 MoSi2 棒式加热元件,标准配置支持预抽真空功能。最高温度运行需水冷;电源 220V,功率 5 kW。

主要优势
  • 可达1700°C的超高温能力,适用于烧结和高温测试。
  • MoSi2 棒加热元件,实现快速响应和均匀温度分布。
  • 预抽真空运行可减少氧含量,支持惰性气体处理。
  • 水冷安全措施确保极端温度下的热管理稳定性。

特点
  • 预抽真空系统(标准:仅预抽真空,真空泵为可选配件)。
  • MoSi2 棒加热元件,耐高温、循环可重复性好。
  • 实验室级炉膛 200 × 300 × 120 mm(8 L),适用于样机和中试测试。
  • 高温运行需水冷。
  • 电气参数:220V,5 kW,支持快速升温和稳定控温。

应用
  • 先进陶瓷和高性能合金的烧结。
  • 粉末冶金、晶体生长和复合材料开发。
  • 在受控气氛下对电子元器件进行高温处理与测试。
  • 广泛用于航空航天、半导体、大学及工业研发实验室。

规格
Model No.: FVA-12
容积 (L): 8
最高温度 (°C): 1700
工作温度 (°C): 1600
电压: 220V
功率 (kW): 5
炉腔尺寸 (mm): 200×300×120
加热元件: MoSi2 棒
真空/泵系统: 无(仅预抽真空;可选配泵)
冷却要求: 是(1700°C 时需要)

可选配件
  • 真空泵
  • 底板 / hearth plate
  • 气体浮子流量计
  • B 型热电偶
  • 水冷机
  • 备用 MoSi2 棒加热器


技术参数
  • 型号: FVA-12
  • 工作温度: 高达1700°C(典型1600°C)
  • 炉腔容积: 8 L(200 × 300 × 120 mm)
  • 加热: MoSi2 棒加热元件
  • 电气: 220V,5 kW
  • 预抽真空功能(标准配置无集成泵)
  • 最高温度下需水冷以确保安全与稳定
  • 典型应用: 烧结、粉末冶金、晶体生长、半导体与航空航天材料研发
* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。