概述SU9600 是一款模块化、透射优化的扫描电子显微镜,适用于纳米材料、二维材料和半导体的高级分析。该机将超高分辨率SEM(UHR-SEM)与分析型STEM功能集成于一体化高稳定性平台,支持可选的4D-STEM、EELS和纳米EDS模块以实现多模态研究。
标语用于纳米材料高级分析的透射优化型SEM
要点- 在单一稳定平台上集成分析型STEM与UHR-SEM功能
- 10 V至30 kV范围内的超高分辨率成像,适用于表面和结构研究
- 冷场发射枪(CFE)、全浸入物镜和类似TEM的样品台,实现领先分辨率(0.34 nm 保证,约0.2 nm 可达)
功能与优势- 具备能量与角度过滤的反射与透射电子检测
- 可将表面信息(SE/BSE)与透射电子信息(BF/ADF/EELS/4D-STEM)相关联分析
- 通过大固角无窗EDS实现亚纳米级元素分析
- EELS与4D-STEM可用于研究电子结构、键合与应变;CFE 提高了 EELS 的能量分辨率
- 可选快速直接电子4D-STEM相机及投影镜头,支持DPC、ptychography、应变与相位成图
- 样品适配灵活:可选低温持样器、MEMS持样器、减速持样器及TEM双倾角持样器
应用- 纳米材料:纳米尺度元素分布图、晶格与晶粒成像、纳米线元素分布
- 薄膜:表面形貌与晶粒结构分析、截面取向分析
- 元素分析:高分辨率EDS映射与低kV EELS用于氧化态与电子结构研究
- 半导体:用于器件分析的高分辨率成像与透射电子研究
备注- 标注 * 的功能为可选项(4D-STEM、EELS、nano-EDS、持样器)。
- 某些高级模式(如减速持样器/上方探测器)为可选,可能影响着陆电压性能。
规格 / 技术参数- SE 图像分辨率:0.4 nm @ 30 kV;1.0 nm @ 1 kV;1 kV 着陆电压时 0.6 nm (*1)
- STEM 图像分辨率:0.34 nm @ 30 kV(晶格像)(*2)
- 加速电压:0.5 至 30 kV
- 着陆电压 (*1):0.01 至 20 kV
- 电学图像偏移:最高 ±5 µm(样品高度 = 0.0 mm)
- 台阶行程:X: ±4.0 mm;Y: ±2.0 mm;Z: ±0.3 mm;T(倾斜):±40°
- 样品尺寸 - 平板样品台(最大):5.0 mm × 9.5 mm × 3.5 mm(H)
- 样品尺寸 - 断面样品台(最大):2.0 mm × 6.5 mm × 5.0 mm(H)
- 电子源:冷场发射(高亮度、低色差),可选 NEG 以改善 EELS 性能
- 探测器与分析:反射与透射电子检测、能量/角度过滤、大固角无窗EDS、EELS、4D-STEM(可选)、直接电子4D-STEM相机(可选)
- 注:*1 使用可选减速持样器和上方探测器时。*2 可选项。