红外光谱仪 Dimension IconIR300™

AFM检查纳米技术

为半导体研发、故障分析和纳米污染物识别增加了 300 毫米的取样通道 Dimension IconIR300™ 大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有无与伦比的功能、样品尺寸和材料类型灵活性。IconIR300 结合了专有的光热红外光谱和纳米级原子力显微镜属性映射功能，可在最广泛的晶圆和光掩膜样品上实现自动晶圆检测和缺陷识别。该系统将原子力显微镜-红外技术的应用范围大大扩展到半导体行业的各个细分领域，超出了传统技术的范围。 IconIR300 基于 Dimension IconIR 系统开创性的大样本架构，提供相关显微镜和化学成像，并提高了分辨率和灵敏度。该系统与自动晶圆处理和先进的数据收集/分析软件集成在一起，能够节省更多时间和成本，提高生产效率。 全晶片 纳米级化学和材料特性表征 结合红外光谱和原子力显微镜特性图，对 200 毫米和 300 毫米晶片进行高精度、无损测量。 明确 识别有机/无机纳米污染物 通过与傅立叶变换红外图库直接相关的光热 AFM-IR 数据，提高半导体晶片和光掩膜的质量。 自动化 基于配方的测量 提供用户友好的全面数据访问和 KLARF 文件支持。 只有 Dimension IconIR300 系统才能提供：