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温度范围: -20 °C - 90 °C
... C 的半导体行业 热电使用地点 (Semistat) 温度控制系统完成等离子刻蚀应用中可复制的温度调节。此系统确保静电硅片夹 (ESC) 的动态温度调节，并且可与所有类型的刻蚀工艺结合使用。成熟和已知的珀耳帖元件传热原理是热电温度调节系统 ...
温度范围: 20 °C - 300 °C
... MX）和2kW（MS），Z高控制温度可达300℃，能够胜任大多数实验室快速，准确的加热需求； > 强劲的循环泵和宽广的温度范围，以及外部温度传感器设计，使MAGIO 特别适用于对外部体系的温度控制应用； > 循环泵连续可调，流量范围：16 ... 31 l / min, 出口压力范围：0.24 ... 0.92 bar, 入口吸力范围：0.03 ...
JULABO GmbH/优莱博
温度范围: 20 °C - 300 °C
... MX）和2kW（MS），Z高控制温度可达300℃，能够胜任大多数实验室快速，准确的加热需求； > 强劲的循环泵和宽广的温度范围，以及外部温度传感器设计，使MAGIO 特别适用于对外部体系的温度控制应用； > 循环泵连续可调，流量范围：16 ... 31 l / min, 出口压力范围：0.24 ... 0.92 bar, 入口吸力范围：0.03 ...
JULABO GmbH/优莱博
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