流量控制设备 Turbo™ 2950

实验室高精度

基于经过现场验证的技术，MSP Turbo™液体流量控制器2950被设计为与MSP Turbo II™蒸发器配对，为半导体薄膜沉积工艺（包括CVD、PECVD、ALD和MOCVD）提供可靠的高性能液体蒸汽输送解决方案。 Turbo™液体流量控制器2950包含定制设计的高精度、高速流量传感器和精心设计的流量控制电子设备，以提供先进半导体加工所需的世界级性能。 - 精确流量控制 2950 LFC集成了流量传感器和液体控制电子设备，以调节MSP的Turbo II™蒸发器上的压电阀。对于缺少车载压电阀的蒸发器，请考虑2950V系列Turbo™ LFC以实现有效的流量控制。 - 应用 - 半导体薄膜沉积工艺 - 化学气相沉积（CVD） - 等离子体增强化学气相沉积（PECVD） - 原子层沉积（ALD） - 金属有机化学气相沉积（MOCVD） - 具有一致流量要求的应用 - 特点和优势 - 固定流量 - 卓越的精度和线性 - 超快响应时间 - 优越的重复性 - 广泛的流量范围选项 - 可用的Turbo™ LFC型号 - 型号：2950-002, 2950-01, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30 - TEOS满量程*（g/min）：0.2, 1, 5, 10, 20, 30 - TEMAZr满量程（g/min）：n/a, 0.19, 0.95, 1.9, 3.8, 5.7 - H2O满量程（g/min）：0.14, 0.73, 3.6, 7.3, 14, 21 *名义最大流量使用TEOS作为参考液体在23±2°C下确定。流量范围是指定液体的函数。 - 品牌：TSI（MSP Turbo™） - 型号：2950-01（其他可用型号：2950-002, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30） - 应用：半导体薄膜沉积（CVD, PECVD, ALD, MOCVD） - 特点：固定流量，高精度，快速响应，重复性，广泛范围