流量控制设备 Turbo™ 2950V

实验室高精度

专为尖端微电子应用而设计，Turbo™液体流量控制器2950V与MSP的Turbo II™蒸发器配对，为半导体薄膜沉积工艺（包括CVD、PECVD、ALD和MOCVD）提供无与伦比的液体源蒸汽输送性能。 Turbo™液体流量控制器2950V具有定制设计的高精度、高速流量传感器和精心设计的流量控制电子设备。这些组件提供了先进半导体加工所必需的世界级性能。 - 精密流量控制：2950 LFC包含流量传感器和液体控制电子设备，以控制MSP的Turbo II™蒸发器上的压电阀。对于没有板载液体控制压电阀的蒸发器，可以使用2950V系列Turbo™ LFC。 - 应用： - 半导体薄膜沉积工艺 - 化学气相沉积（CVD） - 等离子体增强化学气相沉积（PECVD） - 原子层沉积（ALD） - 金属有机化学气相沉积（MOCVD） - 需要频繁流量调整的应用 - 特点和优势： - 精密流量控制和可调性 - 卓越的精度和线性 - 超快响应时间 - 优越的重复性 - 广泛的流量范围选项 - 技术规格 / 特点： - 定制设计的高精度、高速流量传感器 - 精心设计的流量控制电子设备 - 为先进的半导体加工而设计 - 与MSP Turbo II™蒸发器兼容 - 多个型号编号以适应不同的流量范围