自动表面涂层系统 EM ACE600

自动化实验室

概述
使用 EM ACE600 溅镀机为电子显微镜制备细晶薄膜。精确的自动化碳和金属镀膜工艺可实现可重复的结果并提高样品通量。仅用于科研用途。

主要功能

• 高真空涂覆设备，可配置多种源：溅射、碳丝、碳棒和电子束（e‑beam）。
• 双源金属处理腔，可在一次运行中使用多达两个不同的源而不破坏真空。
• 基于配方的自动涂覆流程与前门上料，便于安全且方便的操作。
• 支持低温工作流：低温转移接口、低温台与基础断裂装置，可在低温条件下镀膜并实现低温转移至 SEM。
• 可选旋转阴影（LARS）功能，配备 e‑beam 源与电动 LARS 工作台，用于纳米尺度结构的低角度阴影镀膜。
• 基于工作流的触摸屏界面，实现例行流程的一键操作。

溅射镀覆
实现可重复的细晶溅射镀层。系统可达到优异的基真空（标准 < 2 x 10-6 mbar），并可选配 Meissner 陷阱以进入 10-7 mbar 级别。可调节的样品距离与镀覆角度以及转动台可实现均匀镀覆，并针对不同形貌与靶材优化工艺。面向高倍率 SEM 分析（约 200kX 及以上）设计。

碳镀覆
通过碳丝蒸发、碳棒蒸发或电子束蒸发生产超薄均匀的碳膜。Leica 的 adaptive pulsing 技术用于碳丝，可在最小化热影响的同时实现亚纳米控制的精确非晶膜。适用于 TEM 支撑层、弥散保护涂层及大面积均匀碳层。电子束蒸发适用于如旋转阴影等需要低束发散的应用。

适应性与配置

• 优化的双源概念，带倾斜端口与转动台，实现整个 100 mm 工作台的均匀薄膜分布。
• 可选碳丝、碳棒、e‑beam 与溅射头；可装备等离子预处理（glow discharge）。
• 现场可升级，提供多种样品夹具与工作台（电动 3 轴工作台、旋转/手动工作台、专用冷却工作台）。
• 快速更换工作台盘以适应多用途实验室工作流程。

操作优势

• 前门上料，便于对敏感样品的安全操作。
• 轻便易操控的源，适合日常操作。
• 自动化配方与配方驱动处理，确保可重复性并提高通量。

应用

• 用于平面或结构化非导电样品的高分辨率 SEM 成像。
• 通过旋转阴影与金属沉积增强纳米级结构（如蛋白质、DNA）的对比度。
• TEM 支撑膜制备（超薄碳支撑层 1–5 nm，经烘烤以减少污染）。
• Cryo‑SEM 样品制备及低温转移工作流。

技术规格

• 型号：EM ACE600
• 类型：高真空碳、e‑beam 与溅射涂覆设备
• 基真空：< 2 x 10-6 mbar（标准）
• 可选真空增强：Meissner 陷阱至 10-7 mbar 级别
• 支持的源：溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、e‑beam 蒸发
• 可配置双源金属处理腔（一次工艺可用多达两种不同源）
• 工作台直径/覆盖：针对整个 100 mm 工作台的均匀性进行了优化
• 可调试样距与镀覆角度；转动台实现均匀沉积
• 碳膜厚度控制：精确沉积（典型超薄膜 1–5 nm）
• 旋转阴影（LARS）能力：低角度金属沉积
• Cryo 兼容：低温转移接口、低温工作台、基础断裂装置
• 上料：前门上料以确保样品安全操作
• 用户界面：基于工作流的触摸屏、自动化配方处理
• 可升级性：现场升级选项（源、工作台、glow discharge）
• 预期用途：仅用于科研