概述Labotemp 真空瓷炉 FDV-09 为牙科用真空瓷炉,最高温度可达1305°C,适用于可重复烧成冠、桥及贴面。设备具有优异的气密性,可按时间或温度进行可编程真空控制,最多可存储300个用户程序。多窗口显示监控、键盘温度校准以及实时显示时间和室温,可实现精确的工艺控制。PID 校准与自动参数检测简化调试并提高一致性,适用于生产与科研场景。
主要优点- 高温真空烧成,最高可达1305°C,保证稳定的陶瓷结果。
- 可编程真空控制(按时间或温度),实现工艺灵活性。
- 最多存储300个用户自定义程序,支持可重复的工作流程。
- 实验室级设计:上下移动炉衬及多窗口监控。
特点- 深度真空性能,确保均匀烧成。
- 支持全瓷及金属-瓷修复材料的烧成。
- 优良的气密真空封闭以维持工艺条件。
- 可按时间或温度调节的真空控制。
- 键盘温度校准,实时显示时间与室温。
- PID 校准与自动参数检测,提升运行可靠性。
- 支持最多300个自定义程序存储。
- 多窗口显示,便于过程状态监控。
- 上下移动炉衬,便于安全装卸。
应用- 全瓷及金属-瓷牙科修复体的烧成(冠、桥、贴面)。
- 生产义齿和修复体的牙科实验室。
- 牙科及陶瓷加工培训机构与科研用途。
规格- 最高温度:1305 °C
- 最大工作真空:-97 KPa
- 电压:220V, 50Hz
- 温度校准:键盘校准;实时显示时间和室温
- 程序:最多300个用户自定义程序
- 显示:多窗口显示用于过程监控
- 炉头运动:炉衬上下移动
- 密封性能:优良的气密真空封闭
- 真空控制:可按时间或温度设置
- 净重:40 kg
- 毛重:41 kg