1.12 W/cm3 的高能效和创新的加热控制使窑炉的日常使用成本很低。此外,它们还保证了单个二硅化钼元素(MoSi2)的较长使用寿命。
单独烧结工艺
时间和能源效率在现代牙科技工室中发挥着重要作用。因此,S430 不仅可以设定传统的烧结循环,还可以设定快速工艺,以实现最大的成本效益。所有加热阶段(最多五个)均可自由输入 1 °C 至 100 °C/min 的加热速率。所有保温时间的总和最多为 420 分钟。
VARIO S430 还提供成熟的 TTC 模式(时间-温度-冷却)。该工艺的特点是烧结物体在主动控制的线性冷却过程中返回室温,以避免损坏。
VP330 配备了大尺寸、布局合理的全触摸显示屏。现代化的菜单导航功能提高了效率和操作舒适度。无论是一次性编辑运行程序还是永久性更改程序参数,使用 VP330 都易如反掌。
四个二硅化钼加热元件确保了焙烧室中热量的均匀分布。无论是传统的烧结工艺还是省时省力的快速工艺,锆框架都是按照最高质量标准制造的。
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