概述基于OM SYSTEM紧凑轻量的可换镜头无反相机平台,OM-1 Mark II_IR为近红外成像而专门设计,适用于测试、检测、研究及其他专业应用。该系统将OM SYSTEM相机平台与磁性滤镜套件和软件支持相结合,可实现红外与可见光两种工作流程。
主要特性- 基于OM SYSTEM无反平台的近红外成像相机系统。
- 支持多种高分辨率拍摄模式,包括三脚架高分辨率(Tripod High Res Shot,RAW/JPEG最高可达80百万像素)和手持高分辨率(Handheld High Res Shot,RAW/JPEG最高可达50百万像素)。
- 机内图像处理与可配置自定义模式,便于快速调用常用设置。
- 磁性滤镜安装系统,可快速在红外与可见光成像间切换:包含MRC IR滤镜(通过红外,阻挡可见光)和MRC UV/IR Cut滤镜(用于可见光成像)。
- 适用于三脚架与手持两种工作流程;支持通过兼容USB Power Delivery的设备连续供电。
- 兼容网络摄像头(USB音频/视频类),适用于流媒体或采集工作流程。
随附 / 可配置的磁性滤镜套件- 磁性MRC IR滤镜(阻挡可见波长,透过近红外)。
- 磁性MRC UV/IR Cut滤镜(阻挡紫外与红外;透过可见光以实现标准成像)。
- 磁性镜头盖(套件示例为67 mm)及用于快速安装的磁性适配环。
软件OM Capture 用于远程控制相机及即时有线(tethered)拍摄。OM Workspace 用于图像查看、RAW 处理以及可见光与红外图像的比对。两款应用均支持红外工作流程,并作为免费工具提供以便图像审查与处理。
应用- 工业与制造检测:晶圆(wafer)、亚克力、玻璃、镜面构件——揭示标准照明下不可见的细节。
- 食品行业:异物检测、成分分布评估、产品分类与质量控制。
- 司法鉴定与调查:通过近红外成像进行真伪鉴定与增强型证据分析。
- 科研与文化遗产:近红外观察可揭示铭文、底稿、被烟尘覆盖的表面、壁画及笔触分析。
下载与文档提供全面的用户手册与文档(多语言);提供固件、LUT 与软件资源(OM Capture、OM Workspace),以支持红外成像的拍摄、处理与色彩/工作流管理。OM-1 Mark II 系列及相关套件组件的手册和技术文档已发布。
技术规格- 商品名称:OM-1 Mark II_IR
- 系统类型:基于OM SYSTEM无反相机平台的红外成像系统
- 三脚架高分辨率(High Res Shot Tripod):RAW最高80MP,JPEG最高80MP
- 手持高分辨率(Handheld):RAW最高50MP,JPEG最高50MP
- 机身尺寸/重量(约):134.8 x 91.6 x 72.7 mm;约599 g(含1块充电电池)
- 示例镜头(套件):Ø63.4 x 长度70 mm;重量约254 g(示例:12-45mm F4 PRO 套件镜头)
- 电池:BLX-1(1块),典型约500张
- 电源:支持通过兼容USB Power Delivery的设备连续供电
- Tripod High Res Shot:支持(参见上述拍摄模式)
- 深度合成:支持
- 防护等级:防滴等级1(IPX1)
- 其他:兼容网络摄像头(USB音频类 / 视频类)
- 磁性滤镜套件(随附/可选):MRC IR滤镜、MRC UV/IR Cut滤镜、磁性镜头盖、磁性适配环
- 软件支持:OM Capture(tether/控制)、OM Workspace(RAW处理、图像审阅、可见光与红外对比)