概要基于紧凑轻便的 OM SYSTEM 可换镜头无反相机机身,OM-1 Mark II_IR 是为测试、检验、科研及其他专业应用而设计的近红外成像相机系统。该系统将 OM SYSTEM 相机平台与磁性滤镜套件和软件支持相结合,可实现红外与可见光两种工作流程。
主要特性- 基于 OM SYSTEM 无反平台的近红外成像相机系统。
- 高分辨率拍摄模式:三脚架 High Res Shot(RAW/JPEG 最高 80 兆像素)和手持 High Res Shot(RAW/JPEG 最高 50 兆像素)。
- 机内图像处理与可配置自定义模式,便于快速调用常用设置。
- 磁性滤镜安装系统,可快速在红外与可见光成像间切换:包含 MRC IR 滤镜(透过红外,阻挡可见光)和 MRC UV/IR cut 滤镜(用于可见光)。
- 支持三脚架与手持拍摄流程;支持通过兼容 USB/PD 设备持续供电。
- 兼容网络摄像(USB 音视频类),适用于流媒体或捕获流程。
随附 / 可配置的磁性滤镜套件- 磁性 MRC IR 滤镜(阻断可见波长;透过近红外)。
- 磁性 MRC UV/IR Cut 滤镜(阻断紫外与红外;透过可见光以进行标准成像)。
- 磁性镜头盖(套件示例为 67 mm)及用于快速安装的磁性转接环。
软件OM Capture 用于远程控制相机和即时有线拍摄。OM Workspace 用于图像查看、RAW 处理以及可见光与红外图像的对比。两款应用均支持红外工作流程,并作为免费工具提供以便图像审核与处理。
应用领域- 工业与制造检验:晶圆、丙烯酸、玻璃、镜面组件——揭示常规照明下不可见的细节。
- 食品行业:异物检测、配料分布评估、产品分类与质量控制。
- 法医与调查:通过近红外成像进行真伪验证和证据分析增强。
- 科研与文化遗产:近红外观测用于揭示铭文、底稿、被烟灰覆盖的表面、壁画及笔触分析。
下载与文档提供全面的用户手册与文档(多语言);提供固件、LUTs 及软件资源(OM Capture、OM Workspace),以支持红外成像的拍摄、处理和色彩/工作流管理。OM-1 Mark II 系列及相关套件组件的手册和技术文档已发布。
技术规格- 商用名称:OM-1 Mark II_IR
- 系统类型:基于 OM SYSTEM 无反相机平台的红外成像系统
- High Res Shot(三脚架):RAW 最高 80 MP,JPEG 最高 80 MP
- High Res Shot(手持):RAW 最高 50 MP,JPEG 最高 50 MP
- 相机机身近似尺寸/重量:134.8 x 91.6 x 72.7 mm;约 599 g(含一块可充电电池)
- 示例镜头(套件):Ø63.4 x 长度 70 mm;重量约 254 g(示例 12-45mm F4 PRO 套件镜头)
- 电池:BLX-1(1 块),典型约 500 张
- 电源:可通过兼容 USB Power Delivery 的设备实现持续供电
- Tripod High Res Shot:支持(见上方拍摄模式)
- 景深合成:支持
- 防护等级:防护等级 1(IPX1)
- 其他:兼容网络摄像(USB 音频类 / 视频类)
- 磁性滤镜套件(包含/可选):MRC IR 滤镜、MRC UV/IR cut 滤镜、磁性镜头盖、磁性转接环
- 软件支持:OM Capture(有线/控制)、OM Workspace(RAW 处理、图像查看、可见光与红外对比)